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  • 日立高新离子研磨装置IM4000

    日立高新离子研磨装置IM4000具有断面加工和平面研磨功能的混合仪器!其高通量能提高加工效率:与之前的E-3500型相比,采用新型离子枪设计,减少了横截面研磨时间。(大加工率:硅元素为300微米/小时--加工时间减少了66%。

    更新日期: 2020-08-13
    型号:
    厂商性质: 代理商
  • 日立高新磁控溅射器MC1000

    日立高新磁控溅射器MC1000采用了电磁管电极,能够大限度地减轻对样品的损坏,并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。

    更新日期: 2020-08-13
    型号:
    厂商性质: 代理商
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